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KRI 考夫曼聚焦型射頻離子源用于制備類金剛石薄膜
發(fā)布者:bdqysh  發(fā)布時間:2020-10-30 15:19:43

國內(nèi)某制造商在鈦合金表面制備一層類金剛石薄膜 DLC, 以期改善鈦合金表面摩擦學性能, 為了獲得均勻且致密的類金剛石薄膜, 采用伯東 KRI 聚焦型射頻離子源 RFICP 380 制備類金剛石薄膜.

伯東 KRI 聚焦型射頻離子源 RFICP 380 技術(shù)參數(shù):

射頻離子源型號

RFICP 380

Discharge 陽極

射頻 RFICP

離子束流

>1500 mA

離子動能

100-1200 V

柵極直徑

30 cm Φ

離子束

聚焦

流量

15-50 sccm

通氣

Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他

典型壓力

< 0.5m Torr

長度

39 cm

直徑

59 cm

中和器

LFN 2000

 

推薦理由:

使用 KRI 聚焦型射頻離子源 RFICP 380可以準確、靈活地對樣品選定的區(qū)域進行沉積和刻蝕.

 

運行結(jié)果:

1. 沉積的類金剛石薄膜厚度約為 1.0 μm, 薄膜均勻且致密, 表面粗糙度Ra為13.23nm

2. 類金剛石薄膜與基體結(jié)合力的臨界載荷達到31.0N

3. DLC薄膜具有良好的減摩性, 摩擦系數(shù)為0.15, 耐磨性能得到提高

 

伯東是德國 Pfeiffer 真空泵檢漏儀質(zhì)譜儀真空計, 美國 KRI 考夫曼離子源, 美國HVA 真空閥門, 美國 inTEST 高低溫沖擊測試機, 美國 Ambrell 感應加熱設(shè)備和日本 NS 離子蝕刻機等進口知名品牌的指定代理商.

 

 

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