試驗樣品: 8mm X 8mm的厚度 1 mmde TA2型純鈦線
試驗流量簡介: 通過對試驗樣品進行刻蝕時間長短不同形成不同的清潔表面, 然后通過儀器分析其親水性
用于刻蝕的 KRI 考夫曼聚焦型射頻離子源 RFICP 380 技術(shù)參數(shù):
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射頻離子源型號 |
RFICP 380 |
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Discharge 陽極 |
射頻 RFICP |
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離子束流 |
>1500 mA |
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離子動能 |
100-1200 V |
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柵極直徑 |
30 cm Φ |
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離子束 |
聚焦 |
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流量 |
15-50 sccm |
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通氣 |
Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他 |
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典型壓力 |
< 0.5m Torr |
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長度 |
39 cm |
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直徑 |
59 cm |
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中和器 |
LFN 2000 |
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推薦理由:
使用 KRI 考夫曼聚焦型射頻離子源 RFICP 380 可以準(zhǔn)確、靈活地對樣品選定的區(qū)域進行刻蝕
試驗結(jié)論:
N2和 NH3 的混合氣體射頻離子源處理純鈦表面, 可以在表面引入氨基, 但處理時間并不是越長越好, 改性后的鈦片表面的親水性得到較大的提高, 但隨放置時間的增加其表面親水性會變差, 在5h內(nèi), 改性鈦片保存在氮氣氣氛中有利于保持其親水性.
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