光學(xué)薄膜是改變光學(xué)零件表面特征而鍍在光學(xué)零件表面上的一層或多層膜. 可以是金屬膜、介質(zhì)膜或這兩類膜的組合. 光學(xué)薄膜是各種先進光電技術(shù)中不可缺少的一部分, 它不僅能改善系統(tǒng)性能, 而且是滿足設(shè)計目標(biāo)的必要手段, 光學(xué)薄膜的應(yīng)用領(lǐng)域設(shè)及光學(xué)系統(tǒng)的各個方面.它們在國民經(jīng)濟和國防建設(shè)中得到了廣泛的應(yīng)用, 獲得了科學(xué)技術(shù)工作者的日益重視.
光學(xué)鍍膜機適合鍍制多種光學(xué)膜. 如望遠鏡、眼鏡片、光學(xué)鏡頭、冷光杯等, 配置不同的蒸發(fā)源及膜厚儀, 可鍍制多種膜系, 對金屬、氧化物、化合物及其他高熔點膜材皆可蒸鍍, 并可在玻璃表面鍍超硬膜.
伯東KRI 考夫曼霍爾離子源用于光學(xué)鍍膜機
在光學(xué)鍍膜中, 為了提高折射率（填充密度）、減少波長漂移、減少紅外波段的水氣吸收、增強了膜層的結(jié)合力、耐摩擦能力、機械強度、提高表面光潔度、控制膜層的應(yīng)力、減少膜層的吸收和散射、提高生產(chǎn)效率, 鍍膜廠商會把離子源用于光學(xué)鍍膜機上.
離子源類型雖多, 目的卻無非在線清洗, 改善被鍍表面能量分布和調(diào)制增加反應(yīng)氣體能量. 離子源可以大大改善膜與基體的結(jié)合強度, 同時膜本身的硬度與耐磨耐蝕特性也會改善.
某廠商為了提供鍍膜的質(zhì)量和提高生產(chǎn)效率, 需要在鍍膜機上搭配離子源, 通過溝通了解到客戶的要求及使用環(huán)境, 伯東工程師為客戶推薦KRI考夫曼霍爾離子源 EH1020 F, 并幫忙客戶把離子源安裝在1400 mm 蒸鍍鍍膜機, 應(yīng)用于塑料光學(xué)鍍膜.
常見蒸鍍機臺與對應(yīng) KRI 霍爾離子源型號：
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蒸鍍機臺尺寸 |
KRI 離子源 |
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~1100mm |
eH1010 |
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1100~1400mm |
eH1010, eH1020 |
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1400~1900mm |
eH1020, eH3000 |
伯東KRI 考夫曼霍爾離子源優(yōu)勢：
1.可拆卸陽極組件 - 易于維護; 維護時, 最大限度地減少停機時間; 即插即用備用陽極
2.寬波束高放電電流 - 高電流密度; 均勻的蝕刻率; 刻蝕效率高; 高離子輔助鍍膜 IAD 效率
3.多用途 - 適用于 Load lock / 超高真空系統(tǒng); 安裝方便; 無需水冷
4.高效的等離子轉(zhuǎn)換和穩(wěn)定的功率控制
5.KRI 考夫曼霍爾離子源 controller 自動化控制及聯(lián)機自動化設(shè)計, 提供使用者在操作上更是便利.
6.KRI 考夫曼霍爾離子源 Gun body 模塊化之設(shè)計、提供使用者在于基本保養(yǎng)中能夠降低成本及便利性.
KRI 考夫曼霍爾離子源 EH1020 主要參數(shù):
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Filament Controller |
Discharge controller |
Gas controller |
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17.2A/ 22V |
150V/ 4.85A |
Ar/ 32sccm |
利用 KRI 考夫曼霍爾離子源輔助鍍膜及無離子源輔助鍍膜對鍍膜質(zhì)量之比較：
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KRI EH1020 輔助鍍膜 |
無 Ion Source 輔助鍍膜 |
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鹽水煮沸脫膜測試 |
優(yōu) |
劣 |
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破壞性百格脫膜測試 |
優(yōu) |
劣 |
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光學(xué)折射設(shè)率 |
高 |
低 |
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膜層致密性 |
優(yōu) |
劣 |
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膜層光學(xué)吸收率 |
無 |
有 |
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制程腔體加熱溫度 |
低 |
高 |
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生產(chǎn)成本 |
低 |
高 |
伯東公司主要經(jīng)營產(chǎn)品德國 Pfeiffer渦輪分子泵, 干式真空泵, 羅茨真空泵, 旋片真空泵; 應(yīng)用于各種條件下的真空測量(真空計, 真空規(guī)管);氦質(zhì)譜檢漏儀；質(zhì)譜分析儀；真空系統(tǒng), HVA 真空閥門, Polycold 冷凍機和美國KRI Kaufman 考夫曼離子源（離子槍）
