隨著科學(xué)技術(shù)的發(fā)展, 光學(xué)鍍膜被廣泛應(yīng)用, 例如玻璃鍍膜, 鏡片鍍膜, 顯微鏡鏡片鍍膜, 裝飾燈罩鍍膜, 但鍍膜制程中, 比較容易出現(xiàn)膜層不均勻, 或是產(chǎn)品膜層脫落的現(xiàn)象, 因此離子輔助鍍膜 IBAD應(yīng)運(yùn)而生.
IBAD, 也叫離子束輔助沉積(lon Beam Assisted Depositon 或Ion Beam Enhanced Deb, 是把離子束注入與氣相沉積鍍膜技術(shù)相結(jié)合的復(fù)合表面離子處理技術(shù), 也是離子束表面處理優(yōu)化的新技術(shù).
這種復(fù)合沉積技術(shù)是在離子注入材料表面改性過(guò)程中, 使膜與基體在界面上由注入離子引發(fā)的級(jí)聯(lián)碰撞造成混合, 產(chǎn)生過(guò)渡層而牢固結(jié)合. 因此在沉積薄膜的同時(shí), 進(jìn)行離子束轟擊便應(yīng)運(yùn)而生. 因此它是離子束改性技術(shù)的重要發(fā)展, 也是離子注入與鍍膜技術(shù)相結(jié)合的表面復(fù)合離子處理新技術(shù). 在材料的腐蝕防護(hù)/ 裝飾等方面獲得工業(yè)應(yīng)用.
伯東美國(guó) KRI考夫曼離子源可以輔助可以有效鍍膜 IBAD用于預(yù)清潔 PC, 可以有效防止出現(xiàn)膜層不均勻, 從而防止產(chǎn)品膜層脫落的現(xiàn)象, 因此美國(guó) KRI 考夫曼霍爾型離子源廣泛加裝在各類蒸發(fā)鍍膜機(jī)中.
離子源輔助鍍膜客戶案例一: 廈門某光學(xué)鍍膜企業(yè), 該企業(yè)使用日本 Shincron 真空鍍膜機(jī), 鍍膜腔體約 2 m3, 鍍膜機(jī)加裝 KRI 霍爾離子源 EH 4200 起到預(yù)清潔 PC及輔助鍍膜 IBAD 的作用.
離子源輔助鍍膜具體操作, 霍爾離子源預(yù)清潔 PC +輔助鍍膜 IBAD: 由于膜層表面很光滑,在鍍膜時(shí)會(huì)產(chǎn)生膜層脫落現(xiàn)象, 預(yù)清潔就是將膜層表面用大的離子如 Ar 打擊表面, 使得制程物能有效的吸附在表面上. 加裝KRI霍爾離子源起到預(yù)清潔作用, 在預(yù)清潔后開(kāi)啟離子源輔助鍍膜 IBAD, 膜層厚度均勻性及附著牢固度都明顯提高.
工作示意圖如下, KRI離子源覆蓋面
使用專業(yè)測(cè)膜記號(hào)筆, 可以明顯看出加裝 KRI 離子源前后有很大的不同
KRI 霍爾離子源 Gridless eH 系列主要應(yīng)用
1.輔助鍍膜 IBAD
2.濺鍍&蒸鍍 PC
3.表面改性/ 激活 SM
4.沉積 (DD)
5.離子蝕刻 LIBE
6.光學(xué)鍍膜
7.Biased target ion beam sputter deb (BTIBSD)
8.Ion Beam Modification of Material Properties (IBM)
例如
1. 離子輔助鍍膜及電子槍蒸鍍
2. 線上式磁控濺射及蒸鍍?cè)O(shè)備預(yù)清洗
3. 表面處理
4. 表面硬化層鍍膜
5. 磁控濺射輔助鍍膜
7. 偏壓離子束磁控濺射鍍膜
伯東是德國(guó) Pfeiffer 真空泵, 檢漏儀, 質(zhì)譜儀, 真空計(jì), 美國(guó) KRI 考夫曼離子源, 美國(guó) inTEST 高低溫沖擊測(cè)試機(jī), 美國(guó) Ambrell 感應(yīng)加熱設(shè)備和日本 NS 離子蝕刻機(jī)等進(jìn)口知名品牌的指定代理商.
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