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產(chǎn)品簡介
KRI 霍爾離子源 EH5000F用于大尺寸光學蒸鍍機
KRI 霍爾離子源 EH5000F用于大尺寸光學蒸鍍機
產(chǎn)品價格:
上架日期:2020-09-03 17:27:48
產(chǎn)地:美國
發(fā)貨地:本地至全國
供應(yīng)數(shù)量:不限
最少起訂:1臺
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詳細說明

    隨著市場需求無論在于太陽眼鏡光學鍍膜 (AR coating), 智能型手機照相鏡頭 (Lens coating) 鍍膜質(zhì)量及效率都必須提高.


    為了提高鍍膜質(zhì)量和生產(chǎn)效率鍍膜制造商一般會選擇離子源進行輔助鍍膜有利于:
    1. 填充密度提高折射率提高
    2. 波長漂移減少
    3. 紅外波段的水氣吸收減少
    4. 增強了膜層的結(jié)合力、耐摩擦能力機械強度提高表面光潔度
    5. 控制膜層的應(yīng)力
    6. 減少膜層的吸收和散射
    7. 提高生產(chǎn)效率

    伯東公司代理的美國考夫曼公司 KRI 霍爾離子源EH5000F 已成功應(yīng)用于光學鍍膜中必須的輔助鍍膜應(yīng)用使得大尺寸光學鍍膜機生產(chǎn)過程獲得高生產(chǎn)良率.
    KRI 離子源

     

    KRI 霍爾離子源 EH5000F優(yōu)點:

    1. 高離子濃度 (High density), 低能量 (Low energy)

    2. 離子束涵蓋面積廣 (high ion beam sharp)               

    3. 鍍膜均勻性佳

    4. 提高鍍膜品質(zhì)

    5. 模塊化設(shè)計,保養(yǎng)快速方便

    6. 增加光學膜后折射率 (Optical index)      

    7. 全自動控制設(shè)計,超做簡易

    8. 低耗材成本

    9. 安裝簡易

     

    伯東公司為 Kaufman & Robinson, Inc (KRi) 美國考夫曼公司大中華總代理.

     

    離子源發(fā)明人 Dr. Kaufman 考夫曼博士于1978年考夫曼博士在美國自行創(chuàng)立 Kaufman & Robinson, Inc. (KRi) 公司并歷經(jīng)30年離子源之改良及研發(fā)并取得多項專利目前已在光學鍍膜 (Optical coating), IBAD (離子源助鍍), IBSD (離子濺鍍), IBE (離子刻蝕), DD (離子鍍膜等等應(yīng)用領(lǐng)域大量使用.

     

    伯東是德國 Pfeiffer 真空泵檢漏儀質(zhì)譜儀真空計美國 KRI 考夫曼離子源美國HVA 真空閥門美國 inTEST 高低溫沖擊測試機美國 Ambrell 感應(yīng)加熱設(shè)備和日本 NS 離子蝕刻機等進口知名品牌的指定代理商.

    若您需要進一步的了解詳細信息或討論請參考以下聯(lián)絡(luò)方式:

    上海伯東羅先生                               臺灣伯東王女士
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