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產(chǎn)品簡介
KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP380 輔助磁控濺射沉積 Cu-W 膜
KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP380 輔助磁控濺射沉積 Cu-W 膜
產(chǎn)品價格:¥11
上架日期:2021-01-11 15:47:19
產(chǎn)地:美國
發(fā)貨地:本地至全國
供應數(shù)量:不限
最少起訂:1臺
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詳細說明

    為了得到最佳性能的磁控濺射 Cu-W 薄膜某大學新材料研究所采用 KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP380 輔助磁控濺射技術在基片上沉積 Cu-W .

     

    KRI 射頻離子源 RFICP380 技術參數(shù):

    射頻離子源型號

    RFICP380

    Discharge 陽極

    射頻 RFICP

    離子束流

    >1500 mA

    離子動能

    100-1200 V

    柵極直徑

    30 cm Φ

    離子束

    聚焦平行散射

    流量

    15-50 sccm

    通氣

    Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他

    典型壓力

    < 0.5m Torr

    長度

    39 cm

    直徑

    59 cm

    中和器

    LFN 2000

     

    上圖為磁控濺射系統(tǒng)工作示意圖

     

    KRI 離子源的獨特功能實現(xiàn)了更好的性能增強的可靠性和新穎的材料工藝. KRI 離子源已經(jīng)獲得了理想的薄膜和表面特性而這些特性在不使用 KRI 離子源技術的情況下是無法實現(xiàn)的因此伯東的KRI 考夫曼射頻離子源 RFCIP380 被客戶采用作為 4, 5 濺射離子源.

     

    客戶材料:

    基片為φ25mmX4mm 的玻璃片靶純度 99.9%尺寸 φ76mmX4mm銅靶純度 99.99%尺寸 φ76mmX4mm工作氣體為純度 99.99% 的氬氣.

     

    運行結果:

     W 含量在11.1%Cu-W 薄膜具有最好的硬度和耐磨性.

     

    伯東是德國 Pfeiffer 真空泵檢漏儀質(zhì)譜儀真空計美國 KRI 考夫曼離子源美國HVA 真空閥門美國 inTEST 高低溫沖擊測試機美國 Ambrell 感應加熱設備和日本 NS 離子蝕刻機等進口知名品牌的指定代理商.

     

    若您需要進一步的了解詳細信息或討論請參考以下聯(lián)絡方式:

    上海伯東羅先生                               臺灣伯東王女士
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