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近日,由中科院長春光機所承擔的重大科研裝備研制項目”大型高精度衍射光柵刻劃的研制”順利通過驗收這標志著我國大面積高精度光柵制造中的相關(guān)技術(shù)已達到水平,結(jié)束了我國在高精度大尺寸光柵制造領(lǐng)域受制于人的局面。衍射光柵(以下簡稱光柵)是一種具有納米精度周期性微結(jié)構(gòu)的精密光學元件。它作為核心色散單元器件,在光譜學、天文學、激光器、光通訊等諸多領(lǐng)域中具有重要應用價值。光柵面積大可高集光率和分辨本領(lǐng),精度高可更好的信噪比,但同時將光柵”做大”和”做精”屬于性難題。我國戰(zhàn)略高技術(shù)領(lǐng)域所需要的高精度大尺寸光柵受到國外嚴格。隨著科學技術(shù)的發(fā)展,大面積高精度中階梯光柵已經(jīng)成為制約我國相關(guān)領(lǐng)域技術(shù)發(fā)展的”短板”,此類光柵研制也是各光柵強國之間展開競爭的焦點。2008年,在科學院和共同支持下,長春光機所開始”大型高精度衍射光柵刻劃”的研制工作,目標為研制一臺刻劃面積屬之、技術(shù)水平達的大型高精度衍射光柵刻劃機,突破精密機械加工、精密光學加工、精密檢測、高精度微位移控制等一系列關(guān)鍵技術(shù),并研制出面積達400毫米×500毫米的中階梯光柵。