晶圓是制造半導(dǎo)體芯片的基本材料，半導(dǎo)體集成電路最主要的原料是硅，因此對(duì)應(yīng)的就是硅晶圓。硅在自然界中以硅酸鹽或二氧化硅的形式廣泛存在于巖石、砂礫中，硅晶圓的制造可以歸納為三個(gè)基本步驟：硅提煉及提純、單晶硅生長、晶圓成型。在晶圓進(jìn)行封裝時(shí)，一般都需要通過磨片機(jī)對(duì)晶圓進(jìn)行減薄厚度，其基本方式是通過半導(dǎo)體晶圓和研磨砂輪的相對(duì)運(yùn)動(dòng)來實(shí)現(xiàn)，分別是通過粗磨和精磨兩個(gè)砂輪進(jìn)行減薄，精磨砂輪的顆粒尺寸直接決定了研磨的品質(zhì)，但是目前減薄裝置只有一個(gè)砂輪，而半導(dǎo)體圓片級(jí)封裝領(lǐng)域?qū)ν黄A又有不同的研磨品質(zhì)的要求，其作業(yè)順序只能是：先進(jìn)行硅面粗磨減薄，再進(jìn)行精磨減薄，這樣導(dǎo)致需要多次進(jìn)行磨輪的更換，不但浪費(fèi)材料，還大大降低了設(shè)備的利用率。因此，急需一種可以同時(shí)具備兩種磨輪，無需更換磨輪，提高加工效率的磨片裝置。
