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產(chǎn)品簡(jiǎn)介
CVD CVD爐 氣相沉積爐-西尼特(北京)有限公司
CVD CVD爐 氣相沉積爐-西尼特(北京)有限公司
產(chǎn)品價(jià)格:¥面議
上架日期:2011-08-18 16:30:20
產(chǎn)地:北京
發(fā)貨地:北京
供應(yīng)數(shù)量:不限
最少起訂:1臺(tái)
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詳細(xì)說(shuō)明
    ※產(chǎn)品描述:
    CNT公司PECVD設(shè)備主要由全真空專用不銹鋼腔體,分子泵高真空系統(tǒng),電源,生長(zhǎng)機(jī)體載體及溫控系統(tǒng),獨(dú)立排氣和生長(zhǎng)壓力調(diào)節(jié)系統(tǒng),冷卻循環(huán)水輔助設(shè)備等組成。整機(jī)結(jié)構(gòu)緊湊、操作方便、抽真空速度快。此設(shè)備控制系統(tǒng)采用邏輯按鈕手動(dòng)控制與工控機(jī)自控控制可選。實(shí)現(xiàn)真空抽氣和鍍膜工藝一體化功能。此設(shè)備可用于制作SiO2、Si3N4、非晶Si:H、多晶Si、SiC、W、Ti-Si、GaAs、GaSb等介電、半導(dǎo)體及金屬膜等。
     
     
     
     
     
     
     
    ※技術(shù)指標(biāo):
     
     參 數(shù) 名 稱
    單   位
    配置
    沉積類型
     
    二氧化硅,氮化硅,類金剛石等
    電   源
     
    射頻電源,帶正向功率和反射功率計(jì)指示,帶匹配器
    加熱系統(tǒng)
     
    平板式雙反應(yīng)室系統(tǒng),帶加溫和勻氣系統(tǒng)
    工 作 溫 度
    100~600℃
    基片臺(tái)尺寸
    (φ×H)mm
    1英寸、二英寸、三英寸、四英寸
    基片臺(tái)轉(zhuǎn)速
     
    轉(zhuǎn)速0-20RPM
    控 溫 精 度
    ±1
    極限真空
    pa
    8.0×10-5
    密封系統(tǒng)
     
    磁流體密封
    水冷、氣路系統(tǒng)
     
    冷卻水循環(huán)機(jī)、無(wú)噪聲氣泵
    報(bào)警及保護(hù)
     
    對(duì)缺水、過(guò)流過(guò)壓、斷路等異常情況進(jìn)行報(bào)警及相應(yīng)保護(hù)措施
    真空系統(tǒng) 
    (選 配)
    真空系列
    單級(jí)機(jī)械泵、擴(kuò)散泵機(jī)組、分子泵
    工作腔體
    不銹鋼
    氣氛系統(tǒng)
    浮子流量計(jì)、進(jìn)口、國(guó)產(chǎn)質(zhì)量流量計(jì)
    記錄裝置
    進(jìn)口、國(guó)產(chǎn)無(wú)紙記錄儀
    備注:西尼特可根據(jù)閣下要求提供各種非標(biāo)產(chǎn)品的設(shè)計(jì)制造,歡迎來(lái)函、來(lái)電咨詢!   
          24小時(shí)熱線:400-668-6260   18610138965    Fax:010-51418223
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